產(chǎn)品介紹
工業(yè)反滲透設(shè)備主要用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取，根據(jù)客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產(chǎn)用純水的標(biāo)準(zhǔn)，出水電導(dǎo)率可達(dá) μS/cm~10μS/cm 。適用于食品飲料工業(yè)、電子光電、化工冶金、電廠鍋爐、電鍍涂裝行業(yè)；精密機(jī)械、汽車工業(yè)等行業(yè)。
edi純水設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm
PH: - (在此PH條件下，水硬度不能太高)
溫度：5-35℃
進(jìn)水壓力： 大為4kg/cm2(60psi)小為 (25psi)
進(jìn)水條件
反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-20μs/cm，大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm（NaCl）
pH值： —9
溫度：15℃--35℃
進(jìn)水壓力（DIN）： —
濃水進(jìn)水壓力： —
產(chǎn)水壓力(DOUT)： —
濃水出水壓力(COUT)： —
進(jìn)水硬度：＜ (以CaCO 計）(推薦0 5ppm以下）
進(jìn)水有機(jī)物：TOC＜
進(jìn)水氧化劑：Cl2（活性）＜ ，O3（臭氧）＜ ppm
進(jìn)水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子＜
進(jìn)水硅：SiO2＜
進(jìn)水總CO2：＜3ppm
進(jìn)水顆粒度：＜1μm
電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù)，通過不同數(shù)量的模塊搭配，可以滿足各種水處理要求。為發(fā)電、半導(dǎo)體、微電子、化工以及生物制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供了有力的保障。
具有CE、UL、和CSA標(biāo)識，歐洲FDA衛(wèi)生認(rèn)證通過ISO900L:2000認(rèn)證能夠穩(wěn)定生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18MΩ.cm的超純水。
EDI高純水設(shè)備特性
1、PLC全自動控制，無需人工值守，節(jié)省人力成本
2、EDI高純水設(shè)備能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水，且不會因為再生而停機(jī)
3、設(shè)備出水水質(zhì)高，出水穩(wěn)定，能耗低，水利用率高，運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低
4、關(guān)機(jī)時膜保護(hù)系統(tǒng)可自動沖洗膜面污染物，延長膜使用年限
5、結(jié)構(gòu)緊湊，占地小，大大節(jié)省了基建投資
