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區(qū)熔法有水平區(qū)熔和懸浮區(qū)熔，前者主要用于鍺提純及生長(zhǎng)鍺單晶，硅單晶的生長(zhǎng)則主要采用懸浮區(qū)熔法，生長(zhǎng)過程中不使用坩堝，熔區(qū)懸浮于多晶硅棒和下方生長(zhǎng)出的單晶之間，區(qū)熔法不使用坩堝，污染少，經(jīng)區(qū)熔提純后生長(zhǎng)的硅單晶純度較高，含氧量和含碳量低。高阻硅單晶一般用此法生長(zhǎng)。森爍科技致力于為客戶提供各種硅片解決方案，針對(duì)客戶不同需求提供定制化服務(wù)，在重視客戶滿意度及質(zhì)量服務(wù)至上，持續(xù)提升本公司經(jīng)營績(jī)效，不斷改善創(chuàng)新，專注于半導(dǎo)體行業(yè)研發(fā)領(lǐng)域，研發(fā)創(chuàng)新科學(xué)技術(shù)，取得技術(shù)與品質(zhì)皆優(yōu)的產(chǎn)品，為客戶提供可定制高純的不摻雜FZ本征區(qū)熔半導(dǎo)體單晶硅片. 森爍科技經(jīng)營范圍：2-12英寸調(diào)試級(jí)硅片（Dummy Wafer）,測(cè)試級(jí)硅片（Test Wafer），分立器件用硅、集成電路用硅、特種二極管和節(jié)能燈電子整流器用研磨硅片、紅外濾光片鍍膜用硅片。并可提供半導(dǎo)體硅片單面/雙面拋光、減薄、切割、MEMS等加工和定制服務(wù)。