產(chǎn)品介紹
在給定的空間內(nèi)低于一個大氣壓的氣體狀態(tài)稱之為真空狀態(tài)。這種特定的真空狀態(tài)與大氣狀態(tài)相比較，主要有兩個基本特點(diǎn)：首先，處于真空狀態(tài)的真空容器要受到大氣壓強(qiáng)的作用;其次，真空狀態(tài)下氣體的分子密度小于大氣狀態(tài)下的氣體分子密度，因此，分子之間以及分子與固體表面(如器壁)之間碰撞的幾率相對減小。
那到底哪些地方哪些領(lǐng)域用到了真空技術(shù)呢。
現(xiàn)代社會每個人都在享受著真空技術(shù)給我們帶來的便利。例如：暖壺能保溫的秘訣就在于瓶壁內(nèi)有真空的空間，減少了熱傳導(dǎo)，以保持壺內(nèi)溫度;熒光燈、街燈、汽車照明燈的內(nèi)部也是真空狀態(tài)，否則就無法發(fā)光。電視、電腦顯示器等也離不開真空。眼鏡和攝像機(jī)、照相機(jī)鏡頭為了提高光的透過率，表面所鍍的光學(xué)薄膜也是應(yīng)用了真空技術(shù)。
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)離不開真空技術(shù)。生產(chǎn)半導(dǎo)體元件：(1)要在硅片上摻入相應(yīng)的其他元素;(2)在生產(chǎn)集成電路時要形成復(fù)雜的金屬薄膜和絕緣膜;(3)要進(jìn)行表面的刻蝕處理等復(fù)雜的工序。如果生產(chǎn)過程中的真空度不夠，表面上沾了灰塵或油滴之后會出現(xiàn)嚴(yán)重的后果。集成電路中細(xì)線的寬度是吸煙時吐出的煙霧顆粒直徑的1/3，是一?；覊m直徑的近萬分之一。對集成電路而言，哪怕落有一顆煙霧的顆粒，就好像大路上停了一架大型飛機(jī)一樣，使電子無法通過或造成短路。
新材料開發(fā)離不開真空。以分子束外延為代表的薄膜生長技術(shù)是新材料開發(fā)的重要手段，薄膜材料放到蒸發(fā)源中之后被蒸發(fā)或升華，在超高真空環(huán)境中，薄膜材料的原子或分子可以長距離飛行，到達(dá)襯底成膜;而且由于殘留氣體少，襯底表面形成的薄膜純度高。
表面科學(xué)領(lǐng)域?qū)φ婵斩鹊囊髽O高。在極高真空的環(huán)境下，通過高溫退火或結(jié)合離子濺射而獲得物質(zhì)的清潔表面，這時的表面沒有吸附任何其他的分子或原子。利用掃描隧道電子顯微鏡等的表面分析實(shí)驗手段，可以看到物質(zhì)表面的原子排列和電子狀態(tài)。
物理學(xué)中的粒子加速器，是大規(guī)模真空技術(shù)的組合。電子(或其他帶電粒子)要被加速到接近光速，如果電子儲存環(huán)中不是超高真空狀態(tài)，則電子會和其中的分子或原子碰撞，從而迅速衰減。另外，核聚變反應(yīng)要達(dá)到上億度的高溫，極高真空環(huán)境是系統(tǒng)工作的基本前提。
