鍍膜設(shè)備廠家，恒譽真空供應(yīng)好的磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備， 肇慶市高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司匯集眾多人才，組建高素質(zhì)人才隊伍，于2012-07-23創(chuàng)立，現(xiàn)坐落在肇慶市高要區(qū)金渡鎮(zhèn)世紀(jì)大道交警中隊西側(cè)。公司主營磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備，成熟、精巧的工藝，完善、嚴格的管理制度，為磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備的制造增添一份有力保障。憑借完善的管理體系、雄厚的技術(shù)力量以及成熟生產(chǎn)設(shè)備，恒譽真空的產(chǎn)品深受中小企業(yè)的信賴，用戶反饋良好。

本公司始終支持職工創(chuàng)新，創(chuàng)新技術(shù)、創(chuàng)新管理、創(chuàng)新環(huán)境、創(chuàng)新制度。磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備符合創(chuàng)新精神，與時俱進，適應(yīng)用戶多變的需求。對于想要購買本公司產(chǎn)品客戶可通過銀行轉(zhuǎn)賬的支付方式支付交易，我們會在雙方協(xié)商的時間為您發(fā)送產(chǎn)品，同時我們還將為您提供產(chǎn)品售出后質(zhì)保一年的售后服務(wù)。

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平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區(qū)域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術(shù)概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內(nèi)磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區(qū)域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，同時濺射速率要減小。

旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氮氣或氧氣。當(dāng)金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

正視挑戰(zhàn)，增強信心，創(chuàng)造輝煌。在成功取代傳統(tǒng)制造工業(yè)的同時，滿足了現(xiàn)代生產(chǎn)效率，高穩(wěn)定性和可靠性的精微加工的要求。恒譽真空儼然成為一家成熟的磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)，供應(yīng)的磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備受到廣大中小企業(yè)的一致好評，產(chǎn)品在鏡片，鏡頭，飾品等表面鍍膜，能起到增透、濾光、裝飾等功效擁有良好的表現(xiàn)。

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