鍍膜設備廠家|物超所值的直流磁控濺射鍍膜設備供應， 肇慶市高要區恒譽真空技術有限公司自2012-07-23成立以來，專注于為中小企業提供好的直流磁控濺射鍍膜設備。公司及時跟進潮流動態，立足新起點，開創新局面。擁有成熟的生產加工設備以及可靠的包裝生產流水線，新產品開發周期短、能力強，精度高，制造工藝成熟。歡迎廣大中小企業前來合作。

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平衡態磁控陰極內外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電，靶材利用率相對較高，但由于電子沿磁力線運動主要閉合于靶面，基片區域所受離子轟擊較小.非平衡磁控濺射技術概念，即讓磁控陰極外磁極磁通大于內磁極，兩極磁力線在靶面不完全閉合，部分磁力線可沿靶的邊緣延伸到基片區域，從而部分電子可以沿著磁力線擴展到基片，增加基片區域的等離子體密度和氣體電離率.不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。

旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。

主要問題是反應不光發生在零件表面，也發生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

恒譽真空技術力量雄量，制造設備精良，檢驗手段成熟，現已發展成為集設備研發、生產制造、銷售服務于一體的高新技術企業。恒譽真空依靠高素質的員工，健全的工藝設備，完整的質量管理體系，產品售出后質保一年的售后服務，不斷開拓創新，為廣大中小企業提供可靠的直流磁控濺射鍍膜設備。

恒譽真空經過多年的經營發展，公司已經擁有一支頗具水準的經營團隊。生產的直流磁控濺射鍍膜設備主要用于通過磁控濺射的方法能在工件表面鍍制各種金屬，或其化合物膜層，以達到改變其光電磁性能或起到裝飾性功效，主要服務于廣東肇慶地區。我們始終堅持“用心制造，誠信合作，品質經營”的營業理念，為廣大中小企業供應優異的產品，同時提高售后服務質量，提升客戶滿意程度。

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