哪里有二氧化碳雪花設備-蘇州二氧化碳清洗設備迪史潔清潔技術

迪史潔干冰雪花清洗設備主要從事二氧化碳雪花設備的研發(fā)與生產，創(chuàng)新技術，規(guī)范管理，目前已經成為生產二氧化碳雪花設備的主流企業(yè)之一。我公司供應的產品主要銷往全國，產品性能優(yōu)異，受到芯片行業(yè)的一致好評。公司秉持著“用戶至上，重視需求”的理念，精益求精、不斷創(chuàng)新，以良好的產品品質，的售后服務回報廣大用戶。

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我們的使命:將創(chuàng)新的CO2雪花技術應用于復雜的精密清洗、提取和冷卻應用，以環(huán)保的方式提高生產率、質量和安全性。

迪史潔干冰雪花清洗是一種的顆粒去除技術，廣泛應用于光學、硬盤、表面處理、電子等行業(yè)。這種有效清潔技術的關鍵特征包括能夠去除大量顆粒物質而不凝結、不磨損、不殘留、不接觸。

少量液相迪史潔干冰雪花清洗被注射并與加熱和壓力調節(jié)的惰性推進氣體混合，以形成具有可控噴霧組成和清潔能量的均勻清潔噴霧混合物。根據混合噴嘴組件的幾何形狀、噴霧混合比、推進劑壓力和溫度，輸送到基底的清潔能量是完全可調的。固體迪史潔干冰雪花清洗顆粒以高速撞擊基底，在表面污染物上產生高剪切應力。這一作用產生了化學活性固相，提供了顆粒物質、無機殘留物和有機薄膜污染物的去除。在與污染物和表面接觸后，固體一氧化碳2顆粒升華，沒有留下清潔劑的痕跡。殘留物通過一個集成的通風系統(tǒng)從清潔區(qū)清除。

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ITO薄膜具有高透射率、低電阻率的特性，在顯示器件中常用作透明電極。ITO玻璃基板表面的清潔程度，直接影響到液晶顯示器件生產的成品率；對于OLED器件，lTO薄膜表面狀態(tài)的影響更大。其清洗方法及表面處理工藝都將影響到ITO薄膜的特性，如化學組成、ITO表面的功函數、ITO薄膜和有機層的接觸特性等，進而影響OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量級的粒子和所有的有機、無機化學物質及污跡、水跡等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的親和性。

目前經常用于ITO玻璃表面處理的方法有：化學方法(酸或堿處理)和物理方法(機械拋光、熱處理、氧等離子體處理、氧輝光放電及臭氧環(huán)境紫外線處理等)。本文采用的是干冰顆粒噴射清洗技術。1986年提出將此方法用于表面清潔。之后W.Gerristead等人對2英寸單晶硅基片進行干冰顆粒噴射清洗，清洗前后硅片上的雜質顆粒由538000／cm2減少到342／cm2，減少程度達99.9％；經x光電子能譜(XPS)測量，清洗前后的基片表面上碳氫化臺物的含量降低了25％～30％。此外，干冰顆粒噴射清洗法用于金屬、陶瓷、光學器件、聚合體表面、CMOS圖像傳感器也取得了很好的清洗效果

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什么是CO2爆雪？

CO2噴雪是固體表面的清潔和預處理過程。供應介質是液態(tài)CO2和壓縮空氣。，即所謂的由干冰形成的CO2雪顆粒，是在吹雪機內部產生的。清潔和表面處理干燥、無殘留、環(huán)保。CO2噴雪也常被稱為干冰噴雪或CO2粒子噴雪。

CO2噴雪需要哪些供應介質？

CO2掃雪需要壓縮空氣和液態(tài)CO2。不需要電源連接，因為我們的CO2吹雪機有一個免維護的氣動控制系統(tǒng)。液態(tài)CO2可通過汲取管單缸(容量高達37.5千克)或汲取管束(容量為450千克)供應，對于固定用途，也可通過儲罐供應。

在CO2噴雪中，機器中會產生小的壓縮干冰顆粒，借助高性能噴嘴加速，噴到要清潔的表面上。自由射流中CO2顆粒的流速取決于所用的噴嘴和設定參數。通常，流速范圍為50至300米/秒。使用特殊噴嘴，我們還可以實現高于330米/秒空氣聲速的流速。

CO2雪噴流中的顆粒大小是多少？

二氧化碳雪噴流中的干冰顆粒直徑為1至200米。平均直徑取決于所用的噴嘴和設置參數。由于CO2雪顆粒的尺寸小，可以清潔精細結構的表面，甚至小孔。

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迪史潔干冰雪花清洗設備以“打造行業(yè)優(yōu)異，滿足客戶需求”為使命。公司擁有高素質的員工隊伍，電子設備及其它周邊配件產品的生產水平，產品主銷全國。我司不斷地對產品開拓創(chuàng)新，以技術為核心、視質量為生命、奉用戶為上帝，竭誠為您提供性價比好的產品。

迪史潔干冰雪花清洗設備秉承“客戶至上，以質為本”的企業(yè)宗旨，堅持“平等，合作，誠信，發(fā)展”的經營原則，為您提供品質優(yōu)良，技術成熟的二氧化碳雪花設備。迪史潔（上海）清洗設備有限公司的誠信、實力和產品質量獲得業(yè)界的認可，信守合同，牢記承諾，優(yōu)異。歡迎各界朋友蒞臨參觀指導，望與您達成精誠合作。地址：謝春路1300弄15號A區(qū)

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