芯片清洗二氧化碳清洗設備半導體清洗應用-電路板清洗雪花清洗設備迪史潔清潔技術

迪史潔（上海）清洗設備有限公司成立于2006-07-05，發展至今已擁有大量二氧化碳雪花設備擁護者。我們的服務是全程的，服務的觀念貫穿到產品生產經營的各個環節。為客戶提供精良的二氧化碳雪花設備及服務，多方位滿足客戶的要求是我們的原則。公司憑借一支可靠高能的員工隊伍，使得產品銷售遍布清洗清理設備領域，廣泛銷售各地，為加速行業發展做著不懈的努力。

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迪史潔技術用于許多行業，如汽車油漆預處理、硬盤驅動器CO2清洗、醫療設備制造CO2清洗、航空航天和電子元件CO2清洗制造。我們的應用干燥。綠色。干凈。迪史潔專注于CO2技術創新，以改善制造工藝，用于廣泛的應用。工藝通常比傳統的替代方法更節能。

這些優點意味著干法工藝被越來越多的用于生產微元件的清潔應用中。一個應用是在使用激光直接結構化技術(激光直接結構化)制造中間體時去除燒蝕殘留物。這個過程使得電路布局能夠直接在復雜的三維載體結構上產生。

CO2雪花清洗的優勢是:擴展的設計機會，相當低的組件尺寸和重量，以及更快的電子組件變更:這導致開發和系列生產成本顯著降低。激光還能產生比傳統工藝更的結構。熱塑性材料中的一種特殊添加劑專用于制造CO2雪花清洗。激光束引發物理化學反應來這種添加劑。然后，在此過程中，它在聚合物基質中分解，并在隨后的還原鍍銅中充當催化劑。在激光結構化過程中，活性燒蝕殘留物(也是金屬化的，因此會引起問題)會留在表面上。這些殘留物用二氧化碳雪花清洗。與傳統的清洗相比，例如使用超聲波或高壓水射流，該過程同時平整粗糙的激光結構。其結果是簡化了干冰雪花清洗的結構和內部連接系統，例如引線鍵合、與未封裝芯片的配合以及倒裝芯片技術。此外，清潔模塊可以很容易地直接集成到激光結構化系統中。更多CO2雪花技術咨詢，產品和服務將陸續發布。

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首先感謝您在百忙之中審閱我，當您打開這個文件時，您將開始對我們產品的能力進行評估，對我們的經歷進行閱讀；希望當您關閉這個信息時，我能夠契合您的要求，解決您的問題 所謂的柵欄，是由一種化學物質造成的由于濺射，光刻膠邊緣發生反應在導體路徑上，可以有效和可靠地使用干燥的一氧化碳去除2雪噴射清潔過程。

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干冰雪花清洗三維激光去除能夠制造非常小、精細的空腔和形狀。這種材料加工用于計算機工業、醫療技術、汽車和航空航天工業，以及其他向小型化發展的行業。由于更短的加工時間和更低的勞動要求，與傳統技術相比，該工藝提供了可觀的經濟效益。這在注塑模具、電子和半導體型材、模具鑲塊、可轉位鑲塊以及模具和原型的制造中尤其突出。

使用CO2雪花清洗系統干冰雪花清洗可以加工各種材料，如鋼、鋁、黃銅、硬金屬、陶瓷、石墨和碳化硼。在清除過程中，會產生非常細小的殘留物，如爐渣或水垢，然后通過抽吸清除。對于非常精細的形狀，尤其是具有陡峭壁的形狀，累積的殘留物會降低激光效率，導致廢品。

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ITO薄膜具有高透射率、低電阻率的特性，在顯示器件中常用作透明電極。ITO玻璃基板表面的清潔程度，直接影響到液晶顯示器件生產的成品率；對于OLED器件，lTO薄膜表面狀態的影響更大。其清洗方法及表面處理工藝都將影響到ITO薄膜的特性，如化學組成、ITO表面的功函數、ITO薄膜和有機層的接觸特性等，進而影響OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量級的粒子和所有的有機、無機化學物質及污跡、水跡等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的親和性。

目前經常用于ITO玻璃表面處理的方法有：化學方法(酸或堿處理)和物理方法(機械拋光、熱處理、氧等離子體處理、氧輝光放電及臭氧環境紫外線處理等)。本文采用的是干冰顆粒噴射清洗技術。1986年提出將此方法用于表面清潔。之后W.Gerristead等人對2英寸單晶硅基片進行干冰顆粒噴射清洗，清洗前后硅片上的雜質顆粒由538000／cm2減少到342／cm2，減少程度達99.9％；經x光電子能譜(XPS)測量，清洗前后的基片表面上碳氫化臺物的含量降低了25％～30％。此外，干冰顆粒噴射清洗法用于金屬、陶瓷、光學器件、聚合體表面、CMOS圖像傳感器也取得了很好的清洗效果

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公司多年經營堅持求真務實，產品研發與更新勇于開拓創新，誠信守法、團結奉獻，愿與合作對象共同成長。我司本著誠信打造品質，品質決定未來的信念為廣大新老客戶提供質量可信賴，有口皆碑的二氧化碳雪花設備，盡心為客戶提供24小時在線咨詢的售后服務。迪史潔干冰雪花清洗設備始終堅持不斷創新，以人為本。采用陸運;空運（運費賣家承擔）的產品配送方式，為芯片行業提供二氧化碳雪花設備。

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二氧化碳——本質上不被認為是溫室氣體，不僅可以在醫療技術領域的許多應用中用于清潔基底，而且對環境友好且易于獲取資源。開發的CO2雪噴清潔技術所需的二氧化碳是化學工業生產過程中的副產品，因此是碳中性的。一種應用是同時清潔和去毛刺套管，牙齒植入插座和手術鋸。該工藝能夠有效可靠地去除m范圍內的毛刺。

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總部位于埃斯林根的公司開發的雪噴射技術使用液態二氧化碳作為噴射介質。因此，與干冰工藝相反，不需要單獨制造和儲存干冰顆粒。液態二氧化碳通過超音速雙組分噴嘴輸送，該噴嘴是系統的清潔頭。離開噴嘴時，CO2膨脹形成雪和氣體的混合物，組成核心射流。壓縮空氣作為夾套射流被添加，以將CO2雪晶體加速到超音速。這就是迪史潔干冰雪花的清潔過程如此有效的原因:在撞擊要清潔的表面時，雪晶液化，然后升華。由此產生的升華沖量將污染物分離并帶走。在液態時，二氧化碳也可作為溶劑，從而去除油脂、油和拋光化合物等有機污染物。機械、熱和化學特性的結合使、不可燃的二氧化碳雪能夠在干燥和無殘留的過程中去除固體和薄膜污染物。微小雪晶的低硬度意味著精細結構的敏感表面可以毫無問題地清潔。

迪史潔干冰雪花清洗已在航空航天、汽車電子、醫療和其他行業得到應用。當使用迪史潔干冰雪花時，你會想把安全措施放在適當的位置。

迪史潔干冰雪花清洗去除的一些污染物包括制造殘留物、灰塵、指紋、脫模劑、水印和其他輕質油，所有這些都會影響油漆質量。

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二氧化碳已被廣泛用于清潔玻璃和光學表面。這包括在涂覆光學涂層之前去除污染物，在組裝之前或之后清潔表面，以及許多其他應用。我們用二氧化碳雪清潔表面。表面成分，如XPS所發現的和下面給出的，以及光學檢查，表明有效清潔。從視覺上看，它們是“干凈的”，這一點通過亮場和暗場圖像的檢查得到了驗證。

超臨界流體二氧化碳(CO2雪花清洗系統.

無論使用哪種方法，清洗都取決于液體二氧化碳溶劑的性質或沖擊固相的能量和動量傳遞，或溶劑性質和動量或能量傳遞的組合。顆粒系統依靠宏觀顆粒的高沖擊速度相關的熱機械沖擊應力來去除污染物，這是一個動量和能量傳遞過程。雪噴霧依賴于高速微觀雪粒子的動量傳遞和液態一氧化碳的溶解作用的結合。液態二氧化碳洗滌系統依賴于迪史潔 液相溶劑特性。后，超臨界流體系統完全依賴二氧化碳的超臨界流體特性。

重要的是，迪史潔干冰雪花清洗應用；CO2雪花表面處理、CO2雪花顆粒去除、CO2雪花煙灰去除、CO2雪花殘渣去除、CO2雪花脫脂、檢查前清潔和燒結金屬清潔。隨著我們進一了解我們的能力，我們將繼續用新信息更新此列表。

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竭盡全力，積極進取是我司職業精神的核心。迪史潔（上海）清洗設備有限公司積極探索，通過產品做精、做強，實現企業創新、創優、創，成為清洗清理設備行業頗具競爭力的企業之一。有品質的二氧化碳雪花設備深受廣大芯片行業的支持與信賴，用戶口碑良好。愿有更多志同道合的伙伴前來參與，我們齊心協力、同舟共濟、眾志成城、共創輝煌。

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