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光學(xué)玻璃清潔

氫氧化鈉10~30

碳酸鈉20~50

羧甲基纖維素3~10

有機硅類消泡劑0~5

去離子水余量

脂肪醇聚氧乙烯醚50~

絡(luò)合劑10~30

滲透劑30~80

去離子水余量

表面活性劑可以選用脂肪醇聚氧乙烯醚或者、

滲透劑：jfc、磺化琥珀酸酯的鈉鹽

絡(luò)合劑：edta、edta鈉鹽、胺類

光學(xué)玻璃鍍膜前后清洗

光學(xué)玻璃

光學(xué)玻璃清洗劑光學(xué)玻璃鏡片鍍膜前后，鍍膜后清洗一般分開清洗，鍍膜前因為沒有膜，可以用強堿性清洗劑清洗，不會傷到玻璃鏡片就ok；鍍膜后的膜一般清洗劑，可能會傷到，，可以鍍膜前，鍍膜后清洗都可以

定制迪史潔雪花清潔系統(tǒng)_微清潔雪花清洗光學(xué)玻璃清潔綠色環(huán)保

迪史潔干冰雪噴射清洗在傳統(tǒng)的光刻微芯片生產(chǎn)中也得到了證明。在芯片有限公司，它被用于生產(chǎn)各種應(yīng)用的磁阻傳感器。公司成立了公司2雪噴射技術(shù)在制造用于磁共振傳感器的三維微芯片中作為傳統(tǒng)濕化學(xué)清洗的有效且環(huán)保的替代物。這些通常需要用超純介質(zhì)進(jìn)行昂貴的沖洗過程。二氧化碳干冰技術(shù)去除了金屬化后在導(dǎo)電路徑邊緣形成的所謂柵欄。然后可以將下一個結(jié)構(gòu)應(yīng)用到硅晶片上。

CO2雪花清洗系統(tǒng)因為即使是小的流體介質(zhì)殘留物也會影響微電子元件的功能或保護(hù)涂層的粘附性，所以這些也需要可靠地去除。哥倫比亞2雪為清潔和提高保護(hù)涂層的附著力提供了一種經(jīng)濟(jì)、無殘留的解決方案。同時，該工藝還能夠選擇性地處理特定部分，如粘合和接觸區(qū)域。

迪史潔干冰雪噴射清洗在傳統(tǒng)該工藝還為射頻識別應(yīng)用的微芯片封裝提供了解決方案。組裝前，半導(dǎo)體由夾具放在一個特殊的料盒中。在此過程中，機器人會產(chǎn)生足夠的氣流，這可能會導(dǎo)致將極輕的芯片從包裝中取出。為了防止這種情況，芯片被從封裝后部施加的真空壓住。為此，鉆一個小孔，并清除鉆孔產(chǎn)生的殘留物。哥倫比亞2雪噴射清潔擅長于這一特殊過程。

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壓縮空氣的空氣動力帶走分離的雜質(zhì)，然后通過集成的抽吸單元將其抽出，以防止再次污染。因為一氧化碳2在大氣壓力下瞬間升華，在清潔過程結(jié)束時，部件變干，使它們能夠被電離、或直接涂漆。干洗工藝的另一個優(yōu)點是零件的設(shè)計自由度更大，因為流體可能被截留的幾何形狀不再是問題。

迪史潔干冰雪清潔技術(shù)是基于醫(yī)療雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半導(dǎo)體、牙科雪花清洗、原始設(shè)備制造、工業(yè)微電子雪花清洗、光纖、太陽能雪花清洗、珠寶和服裝行業(yè)的精密清洗系統(tǒng)。

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璃和許多類型的光學(xué)器件已經(jīng)過清洗。清潔的物體包括玻璃、未涂覆的基底、涂覆的玻璃、透鏡、各種光學(xué)器件、金剛石車削光學(xué)器件、硅和鍺光學(xué)器件、鏡子，望遠(yuǎn)鏡鏡子，光柵(小心翼翼地)，鉆石光學(xué)，一個數(shù)碼相機。

CO2雪清潔可以清潔受污染的表面，去除加工油，去除硅酮脫模劑，清潔真空室的零件，清潔接觸銷表面，以及許多其他項目。它不能去除的或任何附著的氧化物。

表面科學(xué)家有時需要使用表面分析技術(shù)，在不改變基底材料的情況下去除無意或有意的污染。在這種情況下，處理、現(xiàn)場測試或僅僅大氣暴露造成的殘留污染會干擾分析。一般來說，試劑級的溶劑清洗可以去除大多數(shù)無意的污染，但也有溶劑清洗不充分的情況。在這些情況下，超聲波溶劑清洗可能需要太長時間，或者可能無法去除或充分減少殘留物。汽車和化工行業(yè)的一些用戶就是這種情況，他們對探索測試零件的表面或現(xiàn)場故障感興趣。二氧化碳雪清潔的用戶可以在15秒鐘內(nèi)快速清潔這些部件，并清除足夠的殘留物，以便進(jìn)行分析。清洗可能是溶劑作用和冷凍斷裂的結(jié)合

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