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CO2雪花清洗系統(tǒng)除雪模式？

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CO2雪花清洗系統(tǒng)有兩個(gè)一氧化碳2除雪模式，我稱(chēng)之為高速和低速方法。在高速方法中，小的干冰晶體形成并以高速撞擊表面。在這種模式下，粒子去除范圍很大，從可見(jiàn)到3 - 5納米。高速模式還能夠去除碳?xì)浠衔铩⒂袡C(jī)物、硅殘留物、指紋，甚至水和溶劑斑點(diǎn)。高速模式用于基片、光學(xué)器件和許多其他物品的清洗。專(zhuān)色尺寸范圍從1/8到1/4英寸，或3到6毫米

CO2雪花清洗系統(tǒng)在低速模式下，初的高速氣流進(jìn)入較大直徑的膨脹區(qū)，小的干冰氣流以較低的速度變成大的雪花。這種模式常見(jiàn)于?望遠(yuǎn)鏡清洗。光學(xué)器件也可以應(yīng)用藝術(shù)保護(hù)。較大顆粒的去除是主要目標(biāo)，碳?xì)浠衔锘蛴袡C(jī)物的去除是不可能的。離開(kāi)膨脹區(qū)的液流尺寸為1英寸圓形(25毫米)或2英寸狹縫(50毫米)

CO2雪花清洗系統(tǒng)一般實(shí)驗(yàn)室、生產(chǎn)和潔凈室清潔，CO2雪花清洗系統(tǒng)襯底制備制造許多金屬和陶瓷零件和組件

CO2雪花清洗系統(tǒng)從微電子和混合電路中去除粒子，CO2雪花清洗系統(tǒng)藝術(shù)修復(fù)、火災(zāi)恢復(fù)、望遠(yuǎn)鏡等等。

迪史潔干冰雪清潔技術(shù)是基于醫(yī)療雪花清洗、航空干冰雪清洗、CO2雪花半導(dǎo)體、牙科雪花清洗、原始設(shè)備制造、工業(yè)微電子雪花清洗、光纖、太陽(yáng)能雪花清洗、珠寶和服裝行業(yè)的精密清洗系統(tǒng)。

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開(kāi)發(fā)的雪噴射技術(shù)使用液態(tài)二氧化碳作為噴射介質(zhì)。因此，與干冰工藝相反，不需要單獨(dú)制造和儲(chǔ)存干冰顆粒。液態(tài)二氧化碳通過(guò)超音速雙組分噴嘴輸送，該噴嘴是系統(tǒng)的清潔頭。離開(kāi)噴嘴時(shí)，CO2膨脹形成雪和氣體的混合物，組成核心射流。壓縮空氣作為夾套射流被添加，以將CO2雪晶體加速到超音速。這就是迪史潔的清潔過(guò)程如此有效的原因:在撞擊要清潔的表面時(shí)，雪晶液化，然后升華。由此產(chǎn)生的升華沖量將污染物分離并帶走。在液態(tài)時(shí)，二氧化碳也可作為溶劑，從而去除油脂、油和拋光化合物等有機(jī)污染物。機(jī)械、熱和化學(xué)特性的結(jié)合使、不可燃的二氧化碳雪能夠在干燥和無(wú)殘留的過(guò)程中去除固體和薄膜污染物。微小雪晶的低硬度意味著精細(xì)結(jié)構(gòu)的敏感表面可以毫無(wú)問(wèn)題地清潔。

迪史潔干冰雪花清洗已在航空航天、汽車(chē)電子、醫(yī)療和其他行業(yè)得到應(yīng)用。當(dāng)使用迪史潔干冰雪花時(shí)，你會(huì)想把安全措施放在適當(dāng)?shù)奈恢谩?/p>

迪史潔干冰雪花清洗去除的一些污染物包括制造殘留物、灰塵、指紋、脫模劑、水印和其他輕質(zhì)油，所有這些都會(huì)影響油漆質(zhì)量。

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玻璃和許多類(lèi)型的光學(xué)器件已經(jīng)過(guò)清洗。清潔的物體包括玻璃、未涂覆的基底、涂覆的玻璃、透鏡、各種光學(xué)器件、金剛石車(chē)削光學(xué)器件、硅和鍺光學(xué)器件、鏡子，望遠(yuǎn)鏡鏡子，光柵(小心翼翼地)，鉆石光學(xué)，一個(gè)數(shù)碼相機(jī)。

CO2雪清潔可以清潔受污染的表面，去除加工油，去除硅酮脫模劑，清潔真空室的零件，清潔接觸銷(xiāo)表面，以及許多其他項(xiàng)目。它不能去除的或任何附著的氧化物。

表面科學(xué)家有時(shí)需要使用表面分析技術(shù)，在不改變基底材料的情況下去除無(wú)意或有意的污染。在這種情況下，處理、現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試或僅僅大氣暴露造成的殘留污染會(huì)干擾分析。一般來(lái)說(shuō)，試劑級(jí)的溶劑清洗可以去除大多數(shù)無(wú)意的污染，但也有溶劑清洗不充分的情況。在這些情況下，超聲波溶劑清洗可能需要太長(zhǎng)時(shí)間，或者可能無(wú)法去除或充分減少殘留物。汽車(chē)和化工行業(yè)的一些用戶就是這種情況，他們對(duì)探索測(cè)試零件的表面或現(xiàn)場(chǎng)故障感興趣。二氧化碳雪清潔的用戶可以在15秒鐘內(nèi)快速清潔這些部件，并清除足夠的殘留物，以便進(jìn)行分析。清洗可能是溶劑作用和冷凍斷裂的結(jié)合

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